Sensys evo高(Gao)压(Ya)DSC

Sensys evo高(Gao)压(Ya)DSC 技(Ji)术(Shu)参(Can)数(Shu)

炉(Lu)体(Ti)：(?) 温(Wen)度(Du)范(Fan)围(Wei)：(?)-120--830℃(?)；(?)温(Wen)度(Du)重(Zhong)复(Fu)性(Xing)：(?) /-0.1%
可(Ke)编(Bian)程(Cheng)温(Wen)度(Du)扫(Sao)描(Miao)速(Su)率(Lu)：(?)0.01-30℃(?)/min
DSC：(?)zui大(Da)样(Yang)品(Pin)容(Rong)积(Ji)：(?)320μ(?)L；(?)
分(Fen)辨(Bian)率(Lu)：(?)0.4μ(?)W，(?)
检(Jian)测(Ce)限(Xian)：(?)5μ(?)w
样(Yang)品(Pin)池(Chi)/坩(Gan)埚(?)较(Jiao)高(Gao)承(Cheng)受(Shou)压(Ya)力(Li)：(?)500bar，(?)600℃(?)
样(Yang)品(Pin)池(Chi)/坩(Gan)埚(?)较(Jiao)高(Gao)可(Ke)监(Jian)控(Kong)压(Ya)力(Li)：(?)400bar，(?)600℃(?)

可(Ke)加(Jia)配(Pei)TG升(Sheng)及(Ji)成(Cheng)一(Yi)台(Tai)同(Tong)步(Bu)热(Re)分(Fen)析(Xi)仪(Yi)：(?)

TGzui大(Da)样(Yang)品(Pin)量(Liang)：(?)35g
TGA分(Fen)辨(Bian)率(Lu)：(?)0.03μ(?)g
气(Qi)路(Lu)：(?)3路(Lu)载(Zai)气(Qi)，(?)1路(Lu)反(Fan)应(Ying)/辅(Fu)助(Zhu)气(Qi)
气(Qi)氛(Fen)：(?)氧(Yang)化(Hua)，(?)还(Huan)原(Yuan)（(?)H2,CO）(?)，(?)腐(Fu)蚀(Shi)（(?)H2S,NH3）(?)，(?)水(Shui)蒸(Zheng)气(Qi)
自(Zi)动(Dong)进(Jin)样(Yang)器(Qi)：(?)48样(Yang)品(Pin)
全(Quan)新(Xin)Calisto操(Cao)作(Zuo)软(Ruan)件(Jian)

Sensys evo高(Gao)压(Ya)DSC 主(Zhu)要(Yao)特(Te)点(Dian)

*SENSYS DSC采(Cai)用(Yong)Setaram *的(De)基(Ji)于(Yu)卡(Ka)尔(?)维(Wei)量(Liang)热(Re)原(Yuan)理(Li)的(De)“(?)三(San)维(Wei)传(Chuan)感(Gan)器(Qi)"（(?)“(?)3D-sensor"）(?)，(?)更(Geng)真(Zhen)实(Shi)地(Di)反(Fan)映(Ying)样(Yang)品(Pin)的(De)热(Re)性(Xing)质(Zhi)（(?)效(Xiao)率(Lu)高(Gao)达(Da)，(?)并(Bing)提(Ti)供(Gong)无(Wu)以(Yi)伦(Lun)比(Bi)的(De)测(Ce)试(Shi)精(Jing)度(Du)
*-120/ 830℃(?)温(Wen)度(Du)工(Gong)作(Zuo)范(Fan)围(Wei)满(Man)足(Zu)大(Da)多(Duo)数(Shu)研(Yan)究(Jiu)需(Xu)要(Yao)
*焦(Jiao)耳(?)校(Xiao)准(Zhun)，(?)排(Pai)除(Chu)样(Yang)品(Pin)形(Xing)态(Tai)、(?)测(Ce)试(Shi)环(Huan)境(Jing)及(Ji)操(Cao)作(Zuo)对(Dui)测(Ce)试(Shi)结(Jie)果(Guo)的(De)影(Ying)响(Xiang)
*高(Gao)性(Xing)能(Neng)Incloy合(He)金(Jin)坩(Gan)埚(?)可(Ke)承(Cheng)受(Shou)500bar的(De)zui大(Da)压(Ya)力(Li)，(?)工(Gong)作(Zuo)温(Wen)度(Du)600℃(?) ，(?)非(Fei)常(Chang)适(Shi)用(Yong)于(Yu)研(Yan)究(Jiu)高(Gao)压(Ya)反(Fan)应(Ying)、(?)危(Wei)险(Xian)化(Hua)学(Xue)品(Pin)稳(Wen)定(Ding)性(Xing)及(Ji)过(Guo)程(Cheng)安(An)全(Quan)的(De)评(Ping)估(Gu)。(?)
**的(De)三(San)维(Wei)传(Chuan)感(Gan)器(Qi)结(Jie)构(Gou)提(Ti)供(Gong)了(Liao)更(Geng)大(Da)的(De)样(Yang)品(Pin)室(Shi)容(Rong)量(Liang)，(?)达(Da)250μ(?)L
*样(Yang)品(Pin)室(Shi)内(Nei)加(Jia)压(Ya)，(?)对(Dui)传(Chuan)感(Gan)器(Qi)无(Wu)冲(Chong)击(Ji)，(?)基(Ji)线(Xian)稳(Wen)定(Ding)，(?)且(Qie)节(Jie)约(Yue)气(Qi)体(Ti)
*坩(Gan)埚(?)内(Nei)压(Ya)力(Li)可(Ke)监(Jian)测(Ce)并(Bing)可(Ke)控(Kong)制(Zhi)，(?)较(Jiao)高(Gao)至(Zhi)400bar，(?)600℃(?)
*可(Ke)在(Zai)还(Huan)原(Yuan)气(Qi)氛(Fen)（(?)H2,CO）(?)及(Ji)腐(Fu)蚀(Shi)气(Qi)氛(Fen)下(Xia)工(Gong)作(Zuo)
*混(Hun)合(He)气(Qi)路(Lu)设(She)计(Ji)，(?)可(Ke)在(Zai)50/50至(Zhi)1/99间(Jian)任(Ren)意(Yi)比(Bi)例(Li)混(Hun)合(He)两(Liang)路(Lu)反(Fan)应(Ying)气(Qi)
*可(Ke)配(Pei)备(Bei)全(Quan)自(Zi)动(Dong)进(Jin)样(Yang)系(Xi)统(Tong)，(?)实(Shi)现(Xian)48个(Ge)样(Yang)品(Pin)的(De)自(Zi)动(Dong)连(Lian)续(Xu)测(Ce)试(Shi)
*高(Gao)度(Du)模(Mo)块(Kuai)化(Hua)，(?)可(Ke)随(Sui)时(Shi)与(Yu)TG及(Ji)气(Qi)体(Ti)分(Fen)析(Xi)仪(Yi)（(?)IR, GC, MS）(?)联(Lian)用(Yong)
*TG为(Wei)上(Shang)天(Tian)平(Ping)设(She)计(Ji)，(?)不(Bu)受(Shou)加(Jia)热(Re)炉(Lu)影(Ying)响(Xiang)，(?)且(Qie)测(Ce)量(Liang)更(Geng)加(Jia)准(Zhun)确(Que)
*可(Ke)与(Yu)湿(Shi)度(Du)控(Kong)制(Zhi)器(Qi)联(Lian)用(Yong)，(?)研(Yan)究(Jiu)可(Ke)控(Kong)湿(Shi)度(Du)下(Xia)的(De)反(Fan)应(Ying)如(Ru)吸(Xi)附(Fu)、(?)水(Shui)合(He)及(Ji)材(Cai)料(Liao)在(Zai)特(Te)定(Ding)湿(Shi)度(Du)下(Xia)稳(Wen)定(Ding)性(Xing)等(Deng)
*全(Quan)新(Xin)Calisto操(Cao)作(Zuo)软(Ruan)件(Jian)，(?)界(Jie)面(Mian)友(You)好(Hao)，(?)功(Gong)能(Neng)强(Qiang)大(Da)，(?)包(Bao)含(Han)比(Bi)热(Re)功(Gong)能(Neng)